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溅射镀膜仪/离子溅射仪/镀金仪/喷金机(镀金、铂、铬...) 型号：K500X,K550X,K575X,K650X,K675X,SC3000 真空镀膜仪/镀碳仪/蒸镀仪 型号：K400X,K450X,K950X,K975X 冷冻干燥仪(Peltier电制冷/液氮制冷) 型号：K750X,K775X 临界点干燥仪 型号：K850 射频等离子蚀刻单元 型号：K1050X 低温扫描电镜冷冻制样传输系统 型号：K1250X 环扫/可变真空电镜冷台 型号：K25X *********************************************************** 各型号简介如下： K25X扫描电镜冷台 K25X冷台通过Peltier制冷，尤其用于可变真空和环境扫描电镜中。有些样品在室温下较敏感，容易产生损坏或发生异常。通过冷台可使样品冷却至零度以下，避免样品的损害。冷台放置在现有的扫描电镜样品台上，经过设计，可用于当今各种品牌的SEM。 扫描电镜上的冷台具有液体循环进行二次冷却，通过扫描电镜上备用端口与外部热交换单元相连，此热交换器处于真空中，完全与扫描电镜隔离。这种设计使得X、Y、Z及倾斜移动能有效工作。本系统自带电源及温度控制系统，电源为标准插口。 系统的主要部件可放置适当的地方，当进行“常规”使用时，冷台很容易被移走。 系统配置 ● Peltier 电制冷冷台及二次液体冷却 ● 真空接口，具有Peltier电源，冷却及温度监视。 ● 可选液体冷却装置（冷却水或自来水） ● 具有P.I.D数字控制单元，可设置输入目标温度点及测量温度显示。 ● 直流低电压Peltier电源 ● K25X可用于市场上各种扫描电镜，用键盘和双显示器作为温度控制和显示，同时显示实际温度和目 标温度。真空接口板具有所有连接，双重微处理器控制。 特点 ● 温度范围从 -35oC 到75oC ● 3分钟内从室温降临至 -25oC ● 可用于各种扫描电镜—通过不同的接口板 ● 同时显示实际温度和目标温度 ● 控制单元体积小 优点 ● 对VP/EP & ESEM 来说，系统通用性强 ● 样品快速冷却 ● 通用系统 ● 当系统准备后很容易观察 ● 紧凑的系统 K450X/K400X真空镀膜仪(喷碳仪) K450X可使用数种碳丝在真空下进行镀膜。蒸镀为各个方向，全自动操作系统使得工作时间相对减少，只需5分钟。 系统采用低电压，大电流，电极之间放置碳丝。 电极装置上装备了保护快门，保护样品在蒸碳除气过程中免受热辐射损害。当完成了这个过程，快门自动回缩，并且全部功率加到电极上，从而引发了熔融碳丝的快速蒸发或称“闪蒸”。然后，快门回到了保护位置。 控制可被预先选择，以允许使用不同类型的碳丝。 由于样品台到电极之间的距离可调以及全自动控制功能，本仪器可进行重复的蒸镀沉积厚度。真空过程和外部旋转真空泵均完全由本仪器控制。 特点 ● 全自动控制 ● 自动保护快门 ● 沉积厚度均匀，可使用碳丝或碳棒 ● 微控制器全自动控制，也可选择手动设置参数控制 ● 菜单驱动“用户”键输入 优点 ● 容易操作 ● 在碳丝除气过程中保护样品 ● 可进行复型样品制备 ● 多种用户都容易操作 K550X/K500X全自动溅射镀膜仪/离子溅射仪/喷金仪 K550X具有旋转样品台，它也可倾斜，非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复厚度沉积更为方便。 磁电管靶使用低电压，可提高效率，K550X能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。 腔室直径为165 mm(6英寸)，非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供最适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，最大的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。 溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。 特点 ● 全自动控制 ● 低电压溅射 ● 高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm) ● 具有倾斜装置的特殊旋转台 ● 均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm或200埃) ● 165 mm(6英寸)腔室 优点 ● 易操作 ● 无需冷却样品台 ● 精确的再次涂层 ● 适合各种样品 ● 膜厚度重复性好 ● 容易装载或卸载样品 ● 可预设沉积厚度 K500X是K550X的手动版，区别在于它不带旋转样品台，所有的其它特点和技术规格与K550X相同。 K575X/K575d电制冷型高真空溅射镀膜仪/离子溅射仪 K575X使用“涡轮”泵，前级为旋片式机械泵，整个抽真空过程为自动控制。真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定时器可设置成不同的溅射时间。 本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。 溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。 K575d（双头）其它与K575X相同，只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时，不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。 注：K575d技术规格与K575X相同，但它具有两头。K575X具有peltier制冷，对于比较厚的沉积，通常用K575d（双头）单元，它需要用水冷却。 特点 ● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细镀层（0.5nm Cr粒子） ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积（典型为5nm） ● 直径为165mm腔室 ● 可选双溅射头 ● 可接膜厚测控仪 优点 ● 可溅射易氧化金属精细颗粒，如：铬或铱 ● 易操作 ● 无需水冷却 ● 超高分辨率，可复制涂层 ● 适应各种样品 ● 重复膜厚沉积 ● 样品容易装载和卸载 ● 不需要打开真空即可进行顺序涂层 ● 沉积厚度可预设 K650X/K650T三靶大样品室溅射镀膜仪/离子溅射仪/半导体、晶圆镀膜仪 K650X具有三个磁控管，可对大样品进行镀膜，样品台可旋转，保证均匀沉积。这种方法可利用标准靶面，不需要特别的大靶面。 这种三头靶面系统特别适用于半导体晶片工业。 本系统磁电管靶使用低电压，提高了效率，并且能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供最适合的性能价格比。功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，最大的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。 溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，具有自动控制，可精确及重复膜厚沉积。 溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。 K650T Turbo Unit与上面相同，但具有涡轮分子泵，抽速60升/秒具有更高及清洁的真空。 特点 ● 三个靶面溅射系统 ● 全自动控制 ● 低电压溅射 ● 高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm) ● 具有倾斜装置的特殊旋转台 ● 均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm 或200埃) ● 225 mm腔室直径 ● 可接膜厚监视器，实时监视镀层厚度 优点 ● 适合大样品，如晶圆 ● 易操作 ● 无需冷却样品台 ● 精确的再次涂层 ● 适合各种样品 ● 膜厚度重复性好 ● 容易装载或卸载大样品—最大到6英寸晶圆 ● 可预设沉积厚度 K675X三靶大样品溅射镀膜仪/离子溅射仪/半导体、晶圆镀膜仪 K675X溅射镀膜仪可用于8英寸（200mm）晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台，可进行渐进的椭圆形转动，这样使得溅射沉积更均匀。 K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率，它使用低电压，可得到薄而精细的涂层。 在K675X中放置了三个靶面，可镀非常大直径的样品，加上旋转样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面，而用标准标即可。 多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵，前级为旋转机械泵。集成的仪器面板及即插即用的电子学最大的“up-time”，以及用户友好设计，保证了多学科领域的应用。 溅射参数可预设，包括气体放气电磁阀。独立的真空泵系统由仪器自动控制。它可用金作为溅射靶材，在需要预清洗或去除氧化层时，也可选用其它靶材，如铬靶。 闸门作为标准配置，这样在维持真空时即可进行溅射清洁和溅射循环。 特点： ● 配置三个靶面 ● 涡轮分子泵抽气系统 ● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细涂层（0.5nm Cr粒子） ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积（典型为5nm） ● 直径为300mm腔室 ● 可选双溅射头 优点： ● 可对大样品进行镀膜，如：8英寸晶圆 ● 可溅射易氧化金属的精细颗粒，如：铬或铱 ● 易操作 ● 无需水冷却 ● 超高分辨率，可复制涂层 ● 适应各种样品 ● 重复膜厚沉积 ● 样品容易装载和卸载，包括8英寸晶圆 ● 不需要打开真空即可进行两种金属顺序涂层 K750X冷冻干燥仪(Peltier制冷) K750X冷冻干燥仪，采用Peltier热电调温样品台，用旋转机械泵来抽真空。该仪器的冷冻干燥温度能达到-60℃。可备选15℃的水冷装置。 温度和定时器时间能够预先设置，干燥过程可自动完成。在干燥过程的最后可使样品达到室温,或者在包埋前进行相继加热。 一次性的干燥剂容器放置在制样腔室中，这样可增强水蒸汽的除去效果。真空腔室里还有一个合适的容器，可装液氮“雪泥”来快速冷冻。 特点 ● 电致冷却和加热 ● Peltier冷冻/加热台 ● 精确的时间监控 ● 自动干燥循环过程 ● 电子控制模块 优点 ● 精确的温度控制 ● 使用便捷 ● 预设干燥过程 ● 使用方便 ● 操作容易 K775X高真空冷冻干燥仪(液氮冷却) K775X涡轮冷冻干燥仪能在-140oC以下的低温工作。该仪器装有涡轮分子泵，其前级泵为旋转真空泵。低温是通过使用系统中的杜瓦瓶及液氮传导冷台获得，并且能维持低温时间达数小时。如果需要，也可以人工加灌。 更适宜的配置是选用含有水平传感器以及30升或60升耐压杜瓦瓶的液氮自动填装系统，可给予数天的免维护操作。 待冷冻样品通过带有样品传输支架的顶盖进入干燥腔室的冷台。（提供两个这样的支架，用于透射电镜栅格和扫描电镜样品托）。系统一体化控制时间和温度，并且在干燥循环的末期，冷台可在样品移除前对其加热。一个带有10段序列控制的微处理器允许被编程设置10个时间周期和10个温度以实现一系列干燥方案，多达10个不同的方案能够被存储备用。这个系统也很容易用氮气吹洗。为了延长干燥周期，可选用一个自动填装液氮装置，它会连续不断地补充液氮到腔室的杜瓦瓶中。 备用的选项是定制专门设计的样品冷冻腔室，它可产生过冷液氮雪泥。这也与带有样品传输顶盖的腔室交相呼应。能在同一次真空条件下镀碳的镀膜附件也是可选项，这类似于一种溅射镀膜附件。 特点 ● 涡轮分子泵真空系统 ● 液氮传导冷台 ● 10个时间温度方案的可编程多段序列控制 ● 精确的时间和温度监控 ● 电子控制模块 优点 ● 能获得-80oC以下的低温 ● 万能自动操作 ● 可预选择干燥周期 ● 易于操作 K850临界点干燥仪/二氧化碳临界点干燥机 临界点干燥 之所以称为临界点干燥，因为它存在状态的连续性，即介质在液态和气态之间无明显的区别，分界面的表面应力降到零。这种现象具有特定压力时存在一定的温度和压力下，被称为临界点。零表面应力这种条件可用于干燥生物样品，避免了表面应力对试样的损坏。 我们在电子显微镜(扫描电镜透射电镜)的生物样品制备时经常需要进行脱水处理，但水的临界点为+374℃及3212 p.s.i.，很不方便并且容易损坏试样。最通常也是最方便的临界点干燥介质为CO2，它的临界点在+31℃及1072 p.s.i.。然而它不容易与水混合，因而必须用第三种介质，通常用丙酮作为中间液体。这样在把过渡液体，即CO2 从液体转为气体时，在临界点无表面应力。 K850X临界点干燥仪通过使用CO2 ，在试样中最先通过一系列脱水代替水份，经常在同样的液体如丙酮这样的中间液体中。 （湿的样品）水 - 丙酮 - 30% - 100% - CO2 - C.P.D. - (干样品) 进行临界点干燥的样品被放置在K850X压力腔室中。腔室预先被冷却，这样很容易从气缸中充入液态CO2 。在随后达到的临界压强下，腔室加热到刚好在临界点温度之上。CO2气体通过针阀放出，避免试样变形。 K850X安装了热电加热、绝热冷却及冷却时温度控制在5℃，加热时在35℃。这确保了临界点的精确得到，避免了压力或温度的超出，或在加热循环时，需要减压阀来控制压强。腔室为垂直形的，具有顶部装载，来确保试样在干燥过程中无覆盖物，并且拥有测面观察端口。 特点 ·具有顶部充入及底部放出的垂直腔室 ·通常操作温度35℃压力1500p.s.i. ·隔热冷却及热电加热 ·微调压力下降控制针阀 ·具有侧面观察端口及“热塑聚碳酸酯”保护外壳 ·用于增加溶解交换的搅拌系统 ·具有热分离保护的温度监视及控制 ·具有减压阀保护的压力监视 K950X 高真空镀膜仪/蒸镀仪/喷碳仪 K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜，并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的导电涂层。在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。最通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到最大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。 涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。 标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。可选的样品台具有特殊的凹槽，可放置标准的载玻片，这在“石棉分析”需要镀碳层时尤为有利。 碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”，使用户在选择金属蒸发附件、碳丝及光阑清洗头时可方便地更换。放气系统具有互锁装置，避免样品受到干扰。涡轮分子泵可安装在任何轴上，并且可安全地“关闭”直接通大气。 特点 ● 全自动抽气系统 ● 旋转样品台 ● 菜单驱动式“用户”键盘输入 ● 快速释放头方便选择不同的头 ● 约束的排气控制 ● 涡轮分子泵抽真空 优点 ● 容易操作 ● 均匀的样品涂层 ● 方便多用户操作 ● 可用于蒸碳及蒸镀金属 ● 在排气过程中可防止样品损坏 ● 碳棒或碳丝蒸发 K975X/K975S多用途高真空镀膜仪/蒸镀仪/喷碳仪 K975X涡轮蒸镀仪是一个多用途系统，它具有灵活性和模块化扩展功能，以适应不同的样品制备。 它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。 K975X可应用一系列成熟技术，包括镀碳及TEM覆形，碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层，可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。 通过使用微处理控制器，更增强了系统的灵活性，用户很容易附加各种可选件，但是这些“缺省”都是经过优化操作设计，使得全自动和手动操作均可实现最佳操作。 独特的抽屉式样品装载系统使用户方便放入各种样品，铰链式顶盖结构很容易达到系统其它区域。 涡轮分子泵安装在系统外部，可方便安装及更换，它的前级真空为旋转真空泵。 整个抽气过程为全自动控制，达到高真空后进行蒸发。本仪器为台式，可方便地进行使用控制，使用中的疏忽也不易造成损坏。 K975S半导体晶圆蒸镀仪 K975S基于K975X，但是它具有特殊的装载锁定门，可允许放入8英寸（200mm）晶圆镀碳，应用于FIB。 特点 ● 全自动抽真空系统 ● 样品尺寸可达140毫米见方或200毫米直径 ● 独特的“anti-stick”碳棒蒸发机构 ● 抽屉式样品装载系统 ● 可选的蒸镀类型，具有四种蒸发设置 ● 约束的或开放的排气控制 ● 可选用各种溅射靶材附件适用于一系列金属 ● 可选膜厚监测系统 优点 ● 容易操作 ● 使用灵活 ● 可靠的碳蒸发 ● 方便的样品装载及卸载 ● 灵活的操作，可选择碳及金属蒸发源 ● 在排气过程中可防止样品损坏 ● 系统灵活性强 ● 很容易测量金属或碳沉积膜厚 K1050X射频等离子刻蚀/灰化系统 K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成，同时两种处理气体流量针阀监控，全部或部分通气口控制。它的腔室为圆柱形，样品装载为抽屉式抽拉系统，方便使用。 真空系统为旋转机械泵或可选用膜片泵作为前级真空的涡轮分子泵。 在真空装载端口及SEM/TEM中特殊的清洁应用时，可方便更换抽屉式抽拉系统。 此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除有机物质（碳氢化合物），氩对样品表面进行刻蚀。 应用： ● 石棉试样制备 ● 有机材料微观灰化 ● SEM&TEM中有机样品刻蚀 ● 去除光刻胶及电子元件中的包胶 ● 塑料品的表面处理 ● SEM/TEM中的样品夹清洗 特点： ● 固态射频发生器及调谐电路 ● 全自动控制 ● 抽屉式结构 ● 两种处理气体 ● 紧凑的台式系统 优点： ● 低温灰化过程 ● 易操作 ● 装/卸样品方便 ● 可选择不同的混合气体 ● 节省空间 ● 注：我们建议使用No. 2泵， 它具有“专用的油”。 K1250X低温扫描电镜冷冻制样传输系统 独立于电镜真空系统之外、自带涡轮分子泵高真空单元的制样系统，具有低温冷冻、镀膜制样、样品传输以及随后的直接观察之先进功能。 众所周知，含水样品（如生物样品、食品、石油类样品）一般是在脱水干燥处理后再镀导电膜才能放入电镜观察。由于脱水干燥，观察到的图像有干瘪变形、结构失真等缺陷。那么，怎样才能实现对含水状态下（不用脱水干燥）的样品形貌进行直接观察呢？本系统针对该应用而设计，它匹配于包括场发射扫描电镜在内的当前所有种类的扫描电镜，其组件分别可将含水样品在电镜外部进行超低温冷冻、镀膜制样（喷金喷碳）等处理，然后通过特别设计的装置将样品传输到位于电镜内部腔室中的冷台（低温样品台）进行随后的观察，所有操作过程不用卸除电镜真空去打开电镜样品腔室。 本系统低温电镜技术是采用超低温冷冻(物理)方法制备生物样品；与常规电镜技术比较，可使样品既符合电镜分析的要求，又最大程度地维持样品在其生活时的生理状态（含水状态），所显示的超微结构更客观地反映了生物样品的自然生理状态。目前该技术已广泛地应用于细胞和分子水平的科学研究中，为准确分析和解决生命科学的一些问题提供了可靠的依据。只要配备了该系统，您的普通电镜立即改造成了一台能直接观察含水样品（无需脱水干燥）的低温扫描电镜！ 系统项目： 冷冻腔室，制样腔室，涡轮分子泵单元 控制单元: 溅射镀膜模块，镀碳模块，真空序列模块，涡轮泵控制单元，温度监控单元，膜厚监控器 传输单元: 带有整体闸阀的传输装置，样品托 扫描电镜组件:液氮，（标准）编织物传导的冷台，（可选）气体对流的冷台，闸阀通路 特点： ●遥控用户界面 ●遥控电子和系统操作 ●独立准备腔室 ●冷却刀探测装置 ●涡轮分子泵装置 ●低电压冷溅射头，可重复性高 ●碳丝闪蒸头 ●带闸阀的活退出传输单元 ●用于表面升华的辐射加热头 优点： ●电子遥控，冲突干扰低 ●独立制样，振动很小 ●高分辨率溅射镀膜（可选） ●冷却刀和探测装置产生冷冻破碎 ●适合任意类型扫描电镜 ●镀碳和镀金能够一起实现 ●容易在室温下进行显微镜操作 ●采用涡轮分子泵超清洁真空系统 ●样品能在显微镜中遥控升华 SC3000溅射镀膜仪(12英寸) /离子溅射仪/半导体、晶圆镀膜仪/镀金仪 Emitech最近投放市场的新型台式溅射镀膜仪SC3000，可适合电镜制样和12英寸晶圆快速镀膜等用途。这个新型溅镀系统重要特点和优点在于它紧凑的腔室尺寸、最少的抽真空时间和最大的制样产量。这个采用全自动控制的新型系统能够在一次真空条件下顺序溅镀多达三层不同的金属膜，靶材可选菜单有15种预设工作程序的材料，还能自动探测放入的晶圆尺寸如100，150，200或300mm。具有涡轮泵的高真空镀膜仪使用标准溅射靶材，在系统中允许使用多种靶材，如易氧化金属和贵金属。 SC3000溅射仪系统可对12英寸（300mm）晶圆进行喷镀。它具有多靶溅射，在不破坏真空的情况下，可进行三层顺序涂层。此仪器为高真空、高分辨率镀膜系统，它可进行精细及精确、可重复的镀膜。 SC3000中配有三个磁电管靶，可镀超大直径的样品，加之可旋转的样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特大的靶面，而用标准靶即可。 多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵，前级为旋转机械泵。集成的仪器面板和即插即用的电子学最大的“up-time”，以及用户友好设计，保证了多学科领域满意的应用。 溅射参数可预设，包括气体放气电磁针阀。 在全自动镀膜过程中，独立的真空泵自始自终由仪器自动控制。可用金作为溅射靶材，也可选用需要预清洁或去除氧化层的靶，如铬靶。 闸门已作为标准配置，该装置允许在维持真空的同时可进行溅射清洁和溅射循环。 仪器特点和优点 ● 模块化控制电子学单元 ● 清洁的真空设计 ● 旋转样品台 ● 多靶溅射（配有溅射清洁光闸） ● LCD 状态/数据登录显示 ● 用户菜单输入可存贮10个方案 ● LCD显示（真空、时间及电流） ● 灵敏的真空测量头（操作真空全范围显示） ● 具有ISO 100 Flange涡轮分子泵抽气系统，（可选更大的泵）240 L/sec ● 整个全自动程序包括净化非常快—15分钟 ● Peltier冷却靶面—无需循环水 ● 不用打开真空即可进行三层顺序镀膜 产品类别：
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