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![]() ![]() JP15.4B型四轴透镜磨抛机(主轴、摆轴单独分开变速) JP15.4B型 四轴透镜磨抛机主要用于光学玻璃、石英玻璃、晶体材料、电子之器体等脆性材料的曲面和球面、平面的研磨和抛光。以及各种高精度平面、凹凸球面模具的研磨抛光。 主要技术参数:1、加工镜盘直径最大直径100mm 2、曲率半径R≥103、水盆直径直径300mm4、主轴转速50~200转/分5、主轴锥度外锥1:8。内锥1:106、摆架转次50~200次/分7、摆 幅0~120mm8、主轴数4轴9、总 功 率2.8KW10、外形尺寸2000×1000×1000(mm)11、重 量约800kg 规格变动恕不另行通知 ... JP12B型大单轴透镜磨抛机 JP12B型大单轴透镜磨抛机主要用于大型光学平面镜、球面镜或非球面镜的研磨抛光。以及大型高精度金属或非金属模具的细磨和抛光。 主要技术参数:1、加范围最大直径1200mm 2、主轴轴数1轴3、主轴转速0~20转/分4、主摆偏心盘最大可调偏心500mm,摆杆可抬起40°,转速0~50转/分(无级调速)摆杆收缩范围500mm5、主轴精度径向,轴向跳动≤0.01mm6、水盆直径1400mm7、副摆铁笔架收缩范围500mm8、机床功率4.4KW9、外形 尺寸1700mm×1800mm×1600mm10、总重量2吨规格变动恕不另行通知 ... JP040.2B型两轴透镜磨抛机(变频调速)JP040.2B型两轴透镜磨抛机主要用于光学玻璃、石英、晶体、电子元件等脆性材料的曲面和平面零件的研磨和抛光。 主要技术参数:1、加工镜盘直径30~400mm 2、水盆直径550mm3、主轴转数0~60转/分4、主轴轴数2轴,螺纹M27×3或(1:8锥度)5、摆架摆次0~60次/分6、摆 幅0~240mm7、主轴轴向径向跳动≤0.018、总功率1.6KW(220V)9、外形尺寸2000×900×1110(mm)9、曲率半径R≥30mm规格变动恕不另行通知 ... CW12A型环形平面精密抛光机 CW12A型环形平面精密抛光机,主要用于光学玻璃、石英、晶体、电子元件,金属和非金属高精度平面元件的精磨抛光。本机床采用花岗岩平台,大形环型轴承,在重载荷低频率下可长期运行,运行平稳、低噪音、节省能源,不锈钢台面、水槽,加工平面零件精度可达λ/20以上。(注:可根据客户需要定制生产CW20型、CW24型环形平面精密抛光机) 主要技术参数:1、 磨盘直径1200mm 2、 水盆直径1400 mm3、 磨盘转速0~5转/分4、 机床总功率3.0KW5、 机床重量2000 kg6、 机床体积直径1560mmX1560mmX1650mm规格变动恕不另行通知 ...
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